Comparison of structure and mechanical properties of SiO2-like films deposited in O2/HMDSO pulsed and continuous plasmas

Varování

Publikace nespadá pod Pedagogickou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.

Název česky	Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu
Autoři	BOSQUET Angelique BURŠÍKOVÁ Vilma GOULLET A. DJOUADI A. ZAJÍČKOVÁ Lenka GRANIER Agnes
Rok publikování	2006
Druh	Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj	Surface & coatings technology
Fakulta / Pracoviště MU	Přírodovědecká fakulta
Citace
Obor	Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova	SILICON DIOXIDE; COATINGS
Popis	Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu
Související projekty:	Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek