Způsob spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 2022 |
| Druh | Patent |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Vydavatel | Úřad průmyslového vlastnictví |
| Stát vydání | Česká republika |
| Číslo patentu | 309452 |
| www | Patentový spis - Udělený patent |
| Popis | Metoda řeší problematiku přípravy redukovaného grafen oxidu (rGO). Redukce a exfoliace grafen oxidu (GO) je jedna z možností výroby grafenu a grafenu podobných materiálů s zajímavými elektrickými, tepelnými a mechanickými vlastnostmi. Metoda využívá nízkoteplotní neizotermické plazma generované při atmosférickém tlaku. Způsob se týká spuštění samovolně se šířícího procesu redukce-exfoliace oxidu grafenu v porézním materiálu s obsahem oxidu grafenu pro zvýšení celkové elektrické vodivosti a specifického povrchu porézního materiálu a jeho podstata spočívá v tom, že se vygenerováním plazmatu v těsné blízkosti a uvnitř pouze části z celkového objemu redukovaného-exfoliovaného porézního materiálu spustí samovolně šířící proces redukce-exfoliace oxidu grafenu, přičemž pro vygenerování spouštěcího plazmatu jsou splněny konkrétní parametry. |
| Související projekty: |