Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition of Thin Films from Tetraethoxysilane and Methanol: Optical Properties and XPS Analyses
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 1996 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Thin Solid Films |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | PECVD; TEOS |
| Související projekty: |